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Fluorwasserstoff steigt
Produktname: Fluorwasserstoff
Abkürzung: HF
Synonyme: Fluorwasserstoffsäure, Spurenqualität, Fluorwasserstoffsäure, 70 %, technisch, Fluorwasserstoffsäure, 49 %, Elektronik-/Reinigungsqualität, Fluorwasserstoffsäure, 48–52 %, technisch, Fluorwasserstoffsäure, Ultraspuren, Fluorwasserstoffsäure, 40 Gew.-%ige Lösung in H₂O, zur Analyse, Fluorwasserstoffsäure, ACS-Reagenz, 48,0–51,0 % HF, HF₂
CAS:7664-39-3
Molekularformel: HF
Molekulargewicht: 20,0063
Einecs:231-634-8
Strukturformel:
KURZBESCHREIBUNG
Fluorwasserstoffsäure ist eine wässrige Lösung von Fluorwasserstoffgas. Sie ist eine klare, farblose, rauchende, ätzende Flüssigkeit mit einem stechenden Geruch. Fluorwasserstoffsäure ist eine schwache Säure, die extrem ätzend ist und Metalle, Glas und siliziumhaltige Materialien stark angreifen kann. Das Einatmen der Dämpfe oder der Hautkontakt kann zu schwer heilenden Verätzungen führen. Im Labor wird Fluorid (Hauptbestandteil ist Calciumfluorid) üblicherweise aus Fluorit und konzentrierter Schwefelsäure hergestellt. Sie muss in einer Plastikflasche verschlossen und kühl gelagert werden.
TECHNISCHE INDIKATOREN
| Projekt analysieren | Analyse | Erfordernis |
| Aussehen | Aussehen | Farbloses Gas mit stechendem Geruch |
| Dichte | Dichten | 0,818 kg/cm 3 |
| Dampfdruck | Dampfdruck | 25 mmHg (20℃) |
| Reinheit(%) | Feinheit | 49,2 % |
| Chroma | Chroma | 3.4 |
VERWENDEN
2. In der Halbleiterindustrie wird es zur Entfernung von Oxiden von der Oberfläche von Silizium verwendet.
3. In Raffinerien kann es als Katalysator für die Alkylierungsreaktion von Isobutan und n-Buten eingesetzt werden. Fluorwasserstoffsäure wird außerdem beim Beizen verwendet, um sauerstoffhaltige Verunreinigungen von der Oberfläche von Edelstahl zu entfernen.
4. Kann zum Entfernen der Glasbeschichtung auf der Oberfläche von Mikrodraht verwendet werden.
5. Es dient der Reinigung und Korrosionsbehandlung von integrierten Schaltkreisen (ICs) und sehr großen integrierten Schaltkreisen (VLSI). Es ist einer der wichtigsten chemischen Grundstoffe in der Mikroelektronikindustrie. Darüber hinaus kann es als analytisches Reagenz und zur Herstellung hochreiner fluorhaltiger Chemikalien verwendet werden.
LAGERBEDINGUNGEN
1. In einem kühlen, gut belüfteten Lager aufbewahren.
2. Von Feuer und Wärmequellen fernhalten. Die Lagertemperatur sollte 30 °C und die relative Luftfeuchtigkeit 85 % nicht überschreiten.
3. Den Behälter stets verschlossen halten.
4. Es sollte getrennt von Laugen, aktiven Metallpulvern und Glasprodukten gelagert werden. Nicht mischen.
5. Der Lagerbereich sollte mit Ausrüstung zur Behandlung von Leckagen und geeigneten Auffangmaterialien ausgestattet sein.
PAKET
2. Andere Verpackungsformen können je nach Kundenwunsch bereitgestellt werden.
CHEMISCHE EIGENSCHAFTEN
2. Fluorwasserstoffsäure kann Glas (Hauptbestandteil: Siliciumdioxid) auflösen, das viele andere Säuren nicht auflösen können, wobei gasförmiges Siliciumtetrafluorid entsteht.
3. Bei niedriger Konzentration weist sie aufgrund der Bildung von Wasserstoffbrücken eine schwache Säure auf, aber bei höherer Konzentration (über 5 mol/L) tritt Selbstionisation ein, und die Fluorwasserstoffsäure ist nun eine sehr starke Säure.
Beschreibung2